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新闻资讯
2022-09-23
离子注入机：半导体四大核心设备之一
近年来，为了快速突破集成电路国产化瓶颈，国产离子注入机也得到了国家政策的重点支持。
2014年，在《国家集成电路产业发展促进纲要》中明确指出，要加强集成电路设备、材料和工艺的集成，发展光刻机、刻蚀机、离子注入机等关键设备，开发光刻胶、大规模硅片等关键材料，加强集成电路制造企业与设备材料企业的合作，加快产业化进程，增强产业支撑能力；
2017年，国家发改委发布的《战略性新兴产业重点产品和服务指导目录》（2016年版）指出，集成电路设备主要包括用于6英寸/8英寸/12英寸集成电路生产线的光刻机和蚀刻机，离子注入机、退火设备、单晶生长设备、薄膜生长设备、化学机械抛光设备、封装设备、测试设备等。集成电路离子注入机包括在目录范围内；
2018年，工业和信息化部发布了《第一（套）重大技术装备推广应用指导目录》，其中也包括离子注入机。
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